在接触式光刻设备中，由于掩模和涂了胶的基片接触容易损伤掩模板，从而导致掩模板的使用寿命较短(只能使用5～25次)。并导致曝光图形累积缺陷。

另外接触的越紧密，掩膜和材料的损伤就越大。

1、接近式间隙曝光工件台系统工作时，样片不与掩模接触，可有效避免样片损伤掩模板，因而减少了曝光图形缺陷的概率。

2、接近式间隙曝光工件台系统工作时，仅用一个驱动气缸同时同步驱动三个滑块伸缩运动，统结构紧凑。

3、接近式间隙曝光工件台系统工作时，能实现自动完成样片与掩模板非接触调平，并使样片与掩模板之间保持要求的曝光间隙r，系统的工作效率高。